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X線分析の進歩 20
(X線工業分析 24集)
絶版

日本分析化学会・X線分析研究懇談会 編

1989年3月31日 初版1刷
ISBN 978-4-900041-05-9 C3043
発行 アグネ技術センター
B5判・並製/228頁
定価 4,860円(本体価格4,500円+税 8%)

→厚さ:17mm,重さ:640g

本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。

[目次]

T. X線回折:解説
  1. 材料構造解析のための最近のX線粉末回折データ解析技術
   (虎谷秀穂)

  2. セラミックス高温超伝導体のX線Rietveld解析とシンクロトロン放射光の
     粉末回折への応用
   (中井 泉・今井克宏・河嶌拓治・泉富士夫)

U. X線回折:報文
  3. 粘土鉱物の水分子の粉末X線回折法による分析
   (渡辺 隆)

  4. 半導体薄膜の極点図形
   (刈谷哲也・高倉秀行・奥山雅則・浜川圭弘)

V. X線スペクトルによる状態分析:報文
  5. アルデヒドー亜硫酸塩付加化合物中の硫黄原子の化学結合状態
   (伊藤博人・高橋義人・福島 整・合志陽一)

  6. Cl,K,Ca,ScおよびTiKα線プロフィルの化学結合効果
   (河合 潤・二瓶好正・合志陽一)

  7. 高分解能CrKα1,2スペクトルによる定量的状態分析
   (鹿籠康行・寺田憤一・福島 整・古谷圭一・合志陽一)

  8. 陽極酸化被膜中のアルミニウムの状態分析
   (福島 整・栗間康則・清水健一・小林賢三・合志陽一)

  9. AlK,SiKX線スペクトルによるファインセラミックス,薄膜の状態分析
   (河合 進・元山宗之)

W. XPS:報文
  10. オンライン波形分離法を利用したESCAによる深さ状態分析
   (山内 洋・服部 健・梶川鉄夫・田辺道穂)

  11. カウフマン型イオン銃による低エネルギーイオンビームの特性
   (桑原 章二・伊藤秋男・宇高 忠・新井智也)

X. 薄膜分析:報文
  12. 薄膜の酸素EXAFS測定
   (前山 智・川村朋晃・尾嶋正治)

  13. シリコンウェハー上のレジスト薄膜の不純物分析
   (橋本秀樹・西大路宏・西勝英雄・飯田厚夫)

Y. EPMA,蛍光X線分析:報文
  14. ZAF補正における諸定数
   (小沼弘義・丹羽瀬・)

  15. 蛍光X線法によるホウ化物,炭化物,窒化物中の含有不純物の定量(その2)
   (金子啓二・熊代幸伸・平林正之・吉田貞史)

  16. 粉末法による岩石の蛍光X線分析・
   (刈谷 聡・刈谷哲也・鈴木堯士)

  17. 点滴濾紙蛍光X線分析法による粉末試料中の軽元素の分析
   (尾松真之・虫本修二・村田充弘)

  18. 点滴法による窒素の蛍光X線分析
   (田中 武・上田義人・中西典顕・岡下英男)

  19. Be窓形真空液体試料容器による溶液の蛍光X線分析
   (越智寛友・田中 武・岡下英男)

Z. 既掲載X線回折図形索引

[. 1987年X線分析のあゆみ
  1. X線分析関係文献集
  2. X線分析関係国内講演会開催状況
  3. X線分析研究懇談会講演会開催状況
  4. X線分析研究懇談会規約
  5. 「X線分析の進歩」投稿手引き
  6. (社)日本分析化学会X線分析研究懇談会1989年度幹事名簿
  7. 「X線粉末回折図形集」の収集に御協力のお願い

\. X線分析関係機器資料

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