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＞＞光学薄膜と成膜技術

	光学薄膜と成膜技術李正中著・(株)アルバック訳 2002年9月25日　初版1刷 2003年5月25日　初版2刷 2005年8月30日　初版3刷 2008年7月31日　初版4刷 ISBN　978-4-901496-01-8 C3054 発行　アグネ技術センター A5判・並製／ 468頁定価 5,500円（本体価格5,000円＋税 10%） →厚さ：26mm，重さ：660g 正誤表（初版3刷用）
光学薄膜は、光通信、ディスプレイ、その他の光デバイスなどの応用において、今後大きく発展することが期待されているきわめて重要な分野である。本書は、光学薄膜技術の基礎から応用までを網羅した教科書として、台湾国立中央大学光学科学研究所　李正中教授によって書かれ、まず台湾で出版、好評により版を重ねている。早くからこの分野の装置やプロセス技術に注目し、次世代光学薄膜の成膜技術の開発を行ってきた（株）アルバックは、社内に本書の翻訳プロジェクトを組み、このたび日本語版発行がようやく実現した。斯界に数少ない実践的な教科書として、光学薄膜の開発や生産に携わるすべてのひとに役立つこと必至の一冊である。
［目次］概要記号と略号表第１章　序論第２章　基礎理論　2.1　電磁波　2.2　単一境界面での反射と透過　2.3　単層膜の反射と透過　2.4　多層膜の反射と透過　2.5　多層膜のマトリックスの幾つかの性質　2.6　非干渉性の場合の反射と透過第３章　光学薄膜設計の図解法　3.1　ベクトル図法　3.2　アドミタンス軌道法第４章　ビームスプリッタ　4.1　ニュートラルビームスプリッタ　4.2　ダイクロイックミラー　4.3　偏光ビームスプリッタ第５章　高反射ミラー　5.1　金属膜反射ミラー　5.2　全誘電体膜高反射ミラー　5.3　全誘電体膜の高反射帯の広帯域化　5.4　膜損失の1/4積層系への影響第６章　エッジフィルター　6.1　非干渉型エッジフィルター　6.2　干渉型エッジフィルター第７章　バンドストップフィルター　7.1　高/低屈折率積層法　7.2　傾斜屈折率膜と不均一膜法第８章　バンドパスフィルター　8.1　広帯域バンドパスフィルター　8.2　狭帯域バンドパスフィルター　8.3　多キャビティバンドパスフィルター　8.4　誘電透過干渉フィルター第９章　斜入射のときの薄膜　9.1　斜入射における薄膜屈折率の修正　9.2　斜入射時における光学アドミタンスの修正　9.3　非偏光膜　9.4　斜入射特性の応用第10章　光学薄膜の作成方法　10.1　液相成膜法　10.2　気相成膜法　10.3　増エネルギー，アシストその他の方法第11章　光学薄膜の特性と作製技術の進歩　11.1　膜質改善のための各種成膜方法　11.2　併用式改善法　11.3　単一材料による多層膜作製　11.4　膜の微視的構造と複屈折性第12章　膜厚の均一性及び膜厚の監視　12.1　膜厚分布の理論解析　12.2　基板支持治具及び膜厚監視法の選択第13章　薄膜の光学特性の測定　13.1　薄膜の光学定数の測定　13.2　薄膜と透過率，反射率，吸収及び散乱の測定　13.3　薄膜の充填密度の測定　13.4　薄膜表面形状及び粗さ測定　13.5　薄膜の硬度，耐摩耗性，付着性及び対環境性　13.6　薄膜の応力の測定　13.7　薄膜の微視的構造の解析　13.8　薄膜の成分分析　13.9　薄膜のレーザー損傷閾値の測定第14章　光学薄膜材料　14.1　光学薄膜に対する基本要求　14.2　良く使われる光学薄膜の成膜と性質　14.3　毒性第15章　光学フィルターの成膜例　15.1　フィルターの設計　15.2　基板の準備　15.3　成膜と膜厚の監視　15.4　光学特性の検査　15.5　非光学特性の検査　15.6　成膜装置の掃除付録１　光学薄膜材料の特性付録２　薄膜光学原理，製作，測定に関する参考文献と会議　　　　　薄膜光学原理，製作および計測に関する参考文献　　　　　薄膜光学原理，製作および計測に関する会議索引

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