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赤外線加熱工学ハンドブック 赤外線加熱工学ハンドブック
品切・重版未定

小岩昌宏 監修・アルバック理工 編集

2003年11月25日 初版1刷
ISBN 978-4-901496-10-0 C3043
発行 アグネ技術センター
A5判・並製/ 394頁+カラー口絵
定価 5,400円(本体価格5,000円+税 8%)

→厚さ:19mm,重さ:560g

他の加熱形式では不可能に近い急速加熱・冷却や精密な温度制御が可能な「赤外線イメージ加熱炉」。この加熱法を利用した色々な実験や測定を紹介し解説している。

[目次]

監修のことば
まえがき
はじめに
執筆者一覧

第T章 赤外線イメージ炉とはなにか
1 赤外線ランプ
  1.1 赤外線ランプの構造
  1.2 ハロゲン・サイクル
  1.3 赤外線ランプの赤外線放射
  1.4 赤外線ランプによる急熱・急冷
  1.5 赤外線ランプの寿命
  1.6 直管型ランプの分類,型名
2 反射面体
3 赤外線イメージ炉の仕様
  3.1 ライン集光炉
  3.2 楕円反射面・円筒炉
  3.3 超高温用の楕円反射面・円筒炉
  3.4 放物反射面・円筒炉
  3.5 放物反射面・平板炉
  3.6 点集光炉
4 熱電対による赤外線イメージ炉の温度制御
  4.1 熱電対のつけ方
  4.2 手動のオープン制御
  4.3 PID制御
  4.4 Pの調節
  4.5 Iの調節
  4.6 Dの調節
  4.7 PID値の調整法
  4.8 複数組のPID最適値
5 放射温度計による赤外線イメージ炉の温度制御
  5.1 放射率,反射率,透過率,吸収率
  5.2 放射計による温度測定の原理
  5.3 放射温度計の種類
  5.4 放射温度計による非接触温度測定の問題点
  5.5 シリコンウエハの非接触式温度制御
6 赤外線イメージ炉の性能
  6.1 通常の抵抗炉と赤外線炉の昇温速度の比較
  6.2 超高温赤外線イメージ炉の電力と最高到達温度
  6.3 放物面赤外線イメージ炉の昇温
  6.4 点集光赤外線イメージ炉の昇温
  6.5 被加熱体の透過率と赤外線イメージ炉の昇温
  6.6 平板加熱の場合のランプと被加熱体の距離の関係
  6.7 楕円円筒炉の軸方向の温度分布
  6.8 放物面円筒炉の径方向の温度分布
7 赤外線イメージ加熱の特徴
  7.1 赤外線ランプ加熱の特徴
  7.2 赤外線加熱と他の急速加熱法との比較
  7.3 鉄の酸化試験における抵抗炉加熱と赤外線加熱の相違
  7.4 赤外線ライン集光加熱とレーザ加熱との比較

第U章 赤外線イメージ加熱の応用
1 半導体・電子材料への応用
  1.1 半導体プロセスにおける赤外線加熱
  1.2 赤外線加熱の枚葉式熱処理装置
  1.3 枚葉式 3 インチ径多目的赤外線加熱炉
  1.4 赤外線加熱によるバッチ式高速アニール
  1.5 CVD 薄膜作りに赤外線加熱を利用
  1.6 シリコン球の酸化膜生成に赤外線加熱を利用
  1.7 固体電解質燃料電池の導電膜の成膜
  1.8 青色発光素子の製造用赤外線加熱装置
2 金属材料の熱処理への応用
  2.1 薄鋼板の赤外線・高速熱処理シミュレータ
  2.2 露点制御雰囲気下の薄鋼板の熱処理シミュレータ
  2.3 アルミニウム合金板の熱処理シミュレータ
  2.4 冷熱衝撃試験への応用
  2.5 押出し加工前の型材予熱
3 高温材料試験への応用
  3.1 高温引張り試験
  3.2 セラミック材料の耐熱衝撃性試験への応用
  3.3 AE法による静的熱疲労試験
  3.4 高温耐熱コーティング材の熱疲労試験
4 熱分析・分析化学へ赤外線加熱の応用
  4.1 試料そのものの温度測定と制御の熱分析
  4.2 真空熱分析
  4.3 定温熱分析
  4.4 階段状加熱測定
  4.5 速度制御熱分析
  4.6 昇温脱離分析への応用
  4.7 高速簡易DTA装置の作り方と実験法
5 単結晶作成への応用
  5.1 FZ法単結晶作成
  5.2 化学輸送法による単結晶作成
6 溶接・溶融体への応用
  6.1 小型ランプの封じきり
  6.2 接触角測定による濡れ性評価
7 その他の応用
  7.1 ソーラーシミュレータ
  7.2 低重力実験装置

第V章 赤外線イメージ炉を用いた研究報告集
1 半導体・電子技術への応用
  1.1 極薄シリコン酸化膜形成への応用
  1.2 急速熱処理を用いた高誘電体薄膜の形成
  1.3 急速昇温加熱処理した強誘電体薄膜の電気特性
  1.4 ビスマス系強誘電体薄膜の形成とデバイス応用
  1.5 次世代LSI配線用低誘電率多孔質シリカ膜の開発
  1.6 精密制御アニールによる新しいSOI基板の作製
  1.7 MOSFET型シリコンフィールドエミッタの開発
  1.8 赤外線イメージ炉を用いた塗布熱分解法による大面積超伝導膜の作製
  1.9 カーボンナノ材料を用いたディスプレイの開発
  1.10 形状記憶合金薄膜への応用
2 薄鋼板の熱処理技術への応用
  2.1 シミュレータの開発からはじめた連続焼鈍技術の開発
  2.2 薄鋼板の連続焼鈍とそのシミュレーション
  2.3 冷延鋼板の材質設計と焼鈍のヒートサイクル
3 高温材料試験への応用
  3.1 表面処理材料の破壊挙動と高温加工性
  3.2 強圧延されたAl-4.2%Mg合金板の低温超塑性
  3.3 トレーニングを必要としない鉄系形状記憶合金の形状記憶特性
  3.4 赤外線イメージ炉を用いた熱間圧延型試験機の開発
  3.5 原子炉材料の事故時挙動研究への応用
4 分析化学への応用
  4.1 アルミニウムアルコキシド加水分解生成物中の炭素成分のEGA-MS分析
  4.2 昇温脱離法によるガス分析と赤外線イメージ炉
  4.3 軽元素の放射化分析のための迅速分離・検出法の開発
5 結晶作製・溶融金属の研究への応用
  5.1 赤外線イメージ炉を用いたシリコン単結晶の成長
  5.2 赤外線イメージ炉を使ったBi2212単結晶作成の試み
  5.3 過冷却融体からの非線型光学素子結晶の生成
  5.4 鋳型材料と鉄合金の濡れ
  5.5 溶融金属によるダイヤモンドの濡れ性
  5.6 レーザ顕微鏡と赤外線イメージ炉を用いた高温材料プロセスの直接観察四方山話
6 セラミックス研究開発への応用
  6.1 熱電素子材用の熱源移動型ホットプレス焼結装置
  6.2 アルミナセラミックスの熱衝撃疲労
  6.3 C/C複合材料の高温挙動
  6.4 フェライトによるソーラ水素生産技術開発研究
  6.5 可視光応答型TiO2の開発
  6.6 微小重力による超伝導薄膜実験
  6.7 短時間微小重力環境を利用する材料合成
  6.8 原子炉用セラミックスの照射回復挙動

索   引

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