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X線分析の進歩 20
(X線工業分析 24集)
日本分析化学会・X線分析研究懇談会 編
1989年3月31日 初版1刷
ISBN 978-4-900041-05-9 C3043
発行 アグネ技術センター
B5判・並製/228頁
定価 ―――(本体価格4,500円+税)
→厚さ:17mm,重さ:640g
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本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。 |
[目次]
T. X線回折:解説
1. 材料構造解析のための最近のX線粉末回折データ解析技術 (虎谷秀穂)
2. セラミックス高温超伝導体のX線Rietveld解析とシンクロトロン放射光の 粉末回折への応用 (中井 泉・今井克宏・河嶌拓治・泉富士夫)
U. X線回折:報文
3. 粘土鉱物の水分子の粉末X線回折法による分析 (渡辺 隆)
4. 半導体薄膜の極点図形 (刈谷哲也・高倉秀行・奥山雅則・浜川圭弘)
V. X線スペクトルによる状態分析:報文
5. アルデヒドー亜硫酸塩付加化合物中の硫黄原子の化学結合状態 (伊藤博人・高橋義人・福島 整・合志陽一)
6. Cl,K,Ca,ScおよびTiKα線プロフィルの化学結合効果 (河合 潤・二瓶好正・合志陽一)
7. 高分解能CrKα1,2スペクトルによる定量的状態分析 (鹿籠康行・寺田憤一・福島 整・古谷圭一・合志陽一)
8. 陽極酸化被膜中のアルミニウムの状態分析 (福島 整・栗間康則・清水健一・小林賢三・合志陽一)
9. AlK,SiKX線スペクトルによるファインセラミックス,薄膜の状態分析 (河合 進・元山宗之)
W. XPS:報文
10. オンライン波形分離法を利用したESCAによる深さ状態分析 (山内 洋・服部 健・梶川鉄夫・田辺道穂)
11. カウフマン型イオン銃による低エネルギーイオンビームの特性 (桑原 章二・伊藤秋男・宇高 忠・新井智也)
X. 薄膜分析:報文
12. 薄膜の酸素EXAFS測定 (前山 智・川村朋晃・尾嶋正治)
13. シリコンウェハー上のレジスト薄膜の不純物分析 (橋本秀樹・西大路宏・西勝英雄・飯田厚夫)
Y. EPMA,蛍光X線分析:報文
14. ZAF補正における諸定数 (小沼弘義・丹羽瀬・)
15. 蛍光X線法によるホウ化物,炭化物,窒化物中の含有不純物の定量(その2) (金子啓二・熊代幸伸・平林正之・吉田貞史)
16. 粉末法による岩石の蛍光X線分析・ (刈谷 聡・刈谷哲也・鈴木堯士)
17. 点滴濾紙蛍光X線分析法による粉末試料中の軽元素の分析 (尾松真之・虫本修二・村田充弘)
18. 点滴法による窒素の蛍光X線分析 (田中 武・上田義人・中西典顕・岡下英男)
19. Be窓形真空液体試料容器による溶液の蛍光X線分析 (越智寛友・田中 武・岡下英男)
Z. 既掲載X線回折図形索引
[. 1987年X線分析のあゆみ
1. X線分析関係文献集
2. X線分析関係国内講演会開催状況
3. X線分析研究懇談会講演会開催状況
4. X線分析研究懇談会規約
5. 「X線分析の進歩」投稿手引き
6. (社)日本分析化学会X線分析研究懇談会1989年度幹事名簿
7. 「X線粉末回折図形集」の収集に御協力のお願い
\. X線分析関係機器資料
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〒107-0062 東京都港区南青山5-1-25 北村ビル TEL03-3409-5329(代表)/FAX03-3409-8237
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